薄膜メタライズ
MARUWAが長年培ってきた薄膜メタライズ技術と、ベースとなるセラミック材料技術との融合により、材料~薄膜形成までの一貫生産を実現。アルミナ基板、窒化アルミニウム基板、多層基板、誘電体セラミックなど放熱性に優れた基板を用いて高集積度と電気的特性を満たした高度な回路パターン形成が可能です。
薄膜形成種類

製品一覧

光通信関連における応用回路基板、高周波関連における回路基板
関連情報
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薄膜メタライズ用基板特性値