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窒化アルミニウム製品〔AIN〕
窒化アルミニウム製品は、優れた熱伝導性、高い電気絶縁性、およびシリコン(Si)に近い熱膨張率の特性を持つ新素材であり、次世代の高熱伝導性材料として注目されています。

■特長
・  熱伝導率: アルミナに比べ、約7倍以上の高い熱伝導性
・  熱膨張率: シリコンに近い熱膨張率を持ち、大型Siチップの搭載や熱サイクルに対して高い信頼性を実現
・  電気的特性: 高い電気絶縁性と低い誘電率
・  機械的特性: アルミナ以上に優れた機械的強度
・  耐食性: 溶融金属に対する優れた耐食性
・  純度: 不純物含有量が極めて少なく、無毒性、高純度

■基板一般公差
項目 シート成型品 プレス成型品
寸法 Max 5"×7" Max □2"
板厚 0.5〜1.5 (as-fired)
0.3〜1.0 (lapped)
1〜8mm
寸法公差 ±1% NLT ±0.1mm ±1% NLT ±0.1mm
厚み公差*1 ±10% ±10%
反り公差*2 ≦0.003mm/mm ≦0.003mm/mm
*1 両面研磨処理品の厚み公差:±0.05mm
*2 両面研磨処理品の反り:±0.0015mm/mm

※形状、公差等のご要望につきましては、お気軽にご相談下さい。各種カスタマイズ可能です。

■熱伝導率

■物性値(代表値)
特性値 単位 AN-170 AN-200 AN-230
密度 g/cm3 3.34 3.28 3.25
熱伝導率 W/m・k (R.T.) 170 200 230
熱膨張計数 ×10-6/℃
(R.T.〜400℃)
4.6 4.6 4.6
絶縁耐力 KV/mm (R.T.) 20 15 15
体積固有抵抗 Ω・cm (R.T.) 1014 1014 1013
誘電率 1MHz (R.T.) 9.0 9.0 9.0
曲げ強度 MPa (R.T.) 450 250 200

■熱膨張率

■製品及び応用例

■用途
・  パワートランジスターモジュール基板
・  高周波デバイス基板
・  サイリスタ用放熱絶縁板
・  半導体レーザー、発光ダイオード用マウント基板
・  ハイブリッドモジュール、イグニッションモジュール
・  ICパッケージ
・  サーモモジュール基板
・  半導体製造装置用部品

■パワーモジュール様式図

■パワーデバイスの応用分野


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